Salwa Merazga*, Aissa Keffous, Abdelhak Cheriet, Khadidja Khaldi, Michel Rosso, Mohamed Kechouane y Noureddine Gabouze
Se han obtenido películas delgadas de aleaciones de carbono y silicio amorfo hidrogenado en régimen de baja potencia mediante un proceso de deposición química en fase de vapor mejorada por plasma (PECVD) con descomposición de silano (SiH4) y metano (CH4) con un contenido de carbono variable (x). El contenido de carbono está restringido al rango 0