Abstracto

Revelando la alta fidelidad del proceso de nanomoldeo mediante la extracción de información de la imagen AFM con artefactos sistemáticos

Sajal Biring

Se ha llevado a cabo un estudio de microscopía de fuerza atómica en modo de contacto (c-AFM) para comprobar la alta fidelidad de un proceso de nanomoldeo en el que las nanoestructuras fabricadas sobre un patrón de silicio se replican sobre una superficie de aluminio. Las imágenes AFM de las nanoestructuras muestran artefactos sistemáticos debido al tamaño finito de la punta del AFM y, por lo tanto, establecen una limitación para la estimación de la fidelidad del proceso de nanomoldeo. El análisis cuantitativo presentado en esta carta permite extraer los parámetros necesarios para revelar la alta fidelidad del proceso de nanomoldeo mientras que el ancho y la profundidad reales de las nanoestructuras aún se desconocen. Este trabajo proporciona una dirección a las investigaciones en el campo de la microscopía de fuerza atómica de nanoestructuras para analizar los datos con precisión en presencia de artefactos sistemáticos.